天能 Tanon 化學(xué)發(fā)光成像系統(tǒng)T5200是專業(yè)的化學(xué)發(fā)光圖像分析系統(tǒng),可對ECL發(fā)光等直接成像,獲得實(shí)驗(yàn)結(jié)果。以往我們主要使用暗室曝光來進(jìn)行ECL檢測,但是建造暗室浪費(fèi)空間,在暗室中曝光步驟繁瑣,沖洗X膠片時(shí)會接觸到有毒的化學(xué)試劑?,F(xiàn)在使用發(fā)光成像系統(tǒng)進(jìn)行ECl成像已經(jīng)逐漸取代傳統(tǒng)的暗室曝光檢測。
更新時(shí)間:2024-11-11
廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
產(chǎn)品型號:Tanon 5200
檢測行業(yè)樣品濃縮儀預(yù)濃縮設(shè)備CV400可以快速濃縮CH3OH等有機(jī)溶劑,同時(shí)它的特殊設(shè)計(jì)避免了樣品間交差污染,可以替代氮吹儀使用,是一款藥物、有機(jī)物檢測前處理儀器。
更新時(shí)間:2024-11-11
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產(chǎn)品型號:CV400
吉艾姆實(shí)驗(yàn)室超低溫制冷設(shè)備冷阱JM80T是新型高的效率溶劑回收裝置,用于冷凝溶劑蒸汽并回收溶劑。冷阱可提高真空濃縮系統(tǒng)的效率,蒸汽的減少提高了系統(tǒng)的真空度,從而加快濃縮過程。
更新時(shí)間:2024-11-11
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產(chǎn)品型號:JM80T
吉艾姆-60°C制冷設(shè)備超低溫冷阱JM50-Plus的冷阱腔體采用304不銹鋼拉伸一體成型工藝,Teflon 高溫噴涂工藝。冷阱腔體采用304不銹鋼拉伸一體成型工藝,Teflon高溫噴涂工藝。溫度可達(dá)-60℃ ,可提高真空濃縮系統(tǒng)的效率,濃縮過程加快。
更新時(shí)間:2024-11-11
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產(chǎn)品型號:JM50-Plus
-50°C低溫冷阱JM50制冷設(shè)備 采用新型溶劑回收裝置,體積小巧,寬度只有21cm,只需要占用很小的實(shí)驗(yàn)臺空間?;厥招矢?,直接懸掛在溶劑蒸汽氣路中的冷凝線圈將蒸汽直接冷凝成液體進(jìn)入回收瓶,制冷速度快,噪音小。
更新時(shí)間:2024-11-11
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產(chǎn)品型號: